特許
J-GLOBAL ID:200903071256108810
均熱ヒーター装置
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-191731
公開番号(公開出願番号):特開平10-302943
出願日: 1997年04月25日
公開日(公表日): 1998年11月13日
要約:
【要約】【課題】 半導体などの被加工材料を加熱する加熱面の温度分布が均一で、且つ加熱時の加熱面の歪みの減少、耐久性、真空シール性、ヒーターの絶縁性の向上を図った均熱ヒーター装置を提供するものである。【解決手段】 被加工材料1を加熱するヒーター装置2の中央部に対して、ほぼ点対称に、同心形状に複数のシーズヒーター4を配置し、この複数のシーズヒーター4を相互に締結するヒーター支持金具5を設け、シーズヒーター4とヒーター支持金具5との空間、および、または上下面に多数の穴のあいた金属プレート6を複数枚重ねて配置し、これらのシーズヒーター4、ヒーター支持金具5、金属プレート6のそれぞれに鋳造金属7となじみのよい金属メッキ8を表面に施した構成体を覆って、鋳造金属で鋳造成形したものである。
請求項(抜粋):
被加工材料を加熱するヒーター装置の中央部に対して、ほぼ点対称に、同心形状に複数のシーズヒーターを配置し、この複数のシーズヒーターを相互に締結するヒーター支持金具を設け、シーズヒーターとヒーター支持金具との空間、および、または上下面に多数の穴のあいた金属プレートまたは低熱膨脹材料を複数枚重ねて配置し、これらのシーズヒーター、ヒーター支持金具、金属プレートのそれぞれに鋳造金属となじみのよい金属メッキを表面に施し、これらの構成体を覆って、鋳造金属で鋳造成形したことを特徴とする均熱ヒーター装置。
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