特許

J-GLOBAL ID：200903071259573980

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 丹 史郎 ,  河辺 保雅 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-085856
公開番号（公開出願番号）：特開平6-301203
出願日： 1993年04月13日
公開日（公表日）： 1994年10月28日
要約：

【要約】【目的】 特に半導体デバイスの製造において、高解像力・アスペクト比が高く側壁が垂直に近い断面形状・及び広い現像ラチチュードを有し、耐熱性に優れ、マスク寸法の再現性が良いポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、下記一般式(1)で表されるポリヒドロキシ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5- (及び/又は-4-)スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする。【化1】ここで、R:水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキル基、アリール基もしくはアルケニル基、R1〜R15:同一でも異なっていても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、または置換もしくは未置換の環状アルキル基を表す。但し、少なくとも1つは水酸基であり、更に、少なくとも1つは置換もしくは未置換の環状アルキル基である、を表す。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されるポリヒドロキ シ化合物の1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステルとアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】ここで、R:水素原子、水酸基、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素数1〜6のアルキル基、アリール基もしくはアルケニル基、R1〜R15:同一でも異なっていても良く、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、または置換もしくは未置換の環状アルキル基を表す。但し、少なくとも1つは水酸基であり、更に、少なくとも1つは置換もしくは未置換の環状アルキル基である、を表す。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027