特許

J-GLOBAL ID：200903071274510161

無機水素分離膜の製造方法

発明者： 伊藤 仁志 ,  谷口 浩之
出願人/特許権者： 三菱化工機株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-314932
公開番号（公開出願番号）：特開2002-119834
出願日： 2000年10月16日
公開日（公表日）： 2002年04月23日
要約：

【要約】【課題】Pd系薄膜に発生したピンホ-ルを効果的に塞ぐことができ、Pd系水素分離膜の歩留まりが向上し、製造費を大幅に低減することができると共に、高透過性のPd系水素分離膜を容易に製造することができる無機水素分離膜の製造方法を提供する。【解決手段】水素含有ガスから水素を選択的に透過分離する無機水素分離膜の製造方法において、多孔質担体の表面にパラジウム系薄膜を形成させたのち、薄膜のピンホ-ルを探査し、探査したピンホ-ル部にパラジウムを主体とした合金若しくはパラジウムと合金化する金属を被着し、被着した金属がパラジウムと合金化する温度で加熱処理してパラジウム系水素分離膜を製造する無機水素分離膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

水素含有ガスから水素を選択的に透過分離する無機水素分離膜の製造方法において、多孔質担体の表面にパラジウム若しくはパラジウムを主体とした合金の薄膜を形成させたのち、薄膜のピンホ-ルを探査し、探査したピンホ-ル部にパラジウムを主体とした合金若しくはパラジウムと合金化する金属を被着し、被着した金属がパラジウムと合金化する温度で加熱処理してパラジウム系水素分離膜を製造する無機水素分離膜の製造方法。

IPC (3件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/56

FI (3件)：

B01D 71/02 500 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/56 Z

Fターム (24件)：

4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02 ,  4D006MC02X ,  4D006NA46 ,  4D006NA50 ,  4D006NA62 ,  4D006NA63 ,  4D006PA02 ,  4D006PB66 ,  4D006PC01 ,  4D006PC80 ,  4G040EB33 ,  4G040FA02 ,  4G040FB09 ,  4G040FC01 ,  4G040FE01 ,  4G140EB37 ,  4G140FA02 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01