特許
J-GLOBAL ID：200903071276831445
成膜装置の清浄化方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-277374
公開番号（公開出願番号）：特開2001-107241
出願日： 1999年09月29日
公開日（公表日）： 2001年04月17日
要約：
【要約】【課題】 成膜装置の基板ホルダの内部に堆積した膜を除去する際に、基板ホルダ内部へのクリーニングガスの回り込み深さを精度よく制御する。【解決手段】 筒状回転体2の上面に被処理基板よりも小径な円形開口部3を形成し、円形開口部3の周囲に被処理基板を載置するための段部4を周設して構成した基板ホルダ1と、筒状回転体2の内部に配置され、円形開口部3の直径よりも大きな外径を有する円盤状構造物5と、を備えた成膜装置を清浄化するための方法である。段部4に被処理基板を載置していない状態において、筒状回転体2を回転させながら基板ホルダ1の上方から下方に向けてクリーニングガスG2を供給し、筒状回転体2の回転によって円形開口部3からクリーニングガスG2が筒状回転体2の内部に吸い込まれる現象を利用して、クリーニングガスG2を筒状回転体2の内部の所望の深さまで導く。
請求項（抜粋）：
筒状回転体の上面に被処理基板よりも小径な円形開口部を形成し、前記円形開口部の周囲に前記被処理基板を載置するための段部を周設して構成した基板ホルダと、前記筒状回転体の内部に配置され、前記円形開口部の直径よりも大きな外径を有する円盤状構造物と、を備え、前記段部に載置した前記被処理基板を前記筒状回転体と共に回転させながら前記被処理基板の表面に成膜ガスを供給して成膜処理する成膜装置を清浄化するための方法において、前記段部に前記被処理基板を載置していない状態において、前記筒状回転体を回転させながら前記基板ホルダの上方から下方に向けてクリーニングガスを供給し、前記筒状回転体の回転によって前記円形開口部から前記クリーニングガスが前記筒状回転体の内部に吸い込まれる現象を利用して、前記クリーニングガスを前記筒状回転体の内部の所望の深さまで導くことを特徴とする成膜装置の清浄化方法。
Fターム (4件)：
4K030DA06
, 4K030FA10
, 4K030GA02
, 4K030GA06
