特許
J-GLOBAL ID：200903071276942735
露光用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-331117
公開番号（公開出願番号）：特開平6-161092
出願日： 1992年11月17日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】 従来の投影露光装置の光学系で深い焦点深度を得ることができる露光用マスクを提供する。【構成】 露光用マスク1は、転写すべき主遮光パターン3をガラス基板2の主面2a上に設け、副遮光パターン4をガラス基板2の副面2b上に設ける。副遮光パターン4は、主面2aを投影露光装置の光学系の焦点面に位置させたとき、主遮光パターン3によって生じる0次光、+1次光及び-1次光の3つの回折光のうち、マスク面に対して垂直な方向へ生じる0次光を遮光する位置に配置する。ウエハ上へのパターン露光の際、ウエハ上に到達する回折光は、焦点深度を小さくする特性を有する0次光が除外された±1次光のみとなる。【効果】 従来の3光束の干渉による結像を2光束の干渉による結像へと変換でき、転写の際に深い焦点深度が得られる。
請求項（抜粋）：
投影露光法により転写されるパターンの原版として用いられる露光用マスクであって、ガラス基板の両面に遮光パターンを設けたことを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 L
