特許
J-GLOBAL ID：200903071297844210
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-160100
公開番号（公開出願番号）：特開平8-334885
出願日： 1995年06月02日
公開日（公表日）： 1996年12月17日
要約：
【要約】【目的】 ハーフトーン型位相シフトマスクの有効領域の周囲部分を、従来のような複雑な遮光帯を用いることなく簡単な方法によって、確実に遮光できるようにする。また、有効領域の周囲部分にフィデューシャルマーク等といった補助パターンを設ける場合に、そのパターンを鮮明に形成できるようにする。【構成】 透明基板1上の有効領域8(寸法a×b)内に半透明位相シフト膜2aによって希望のパターン像10を形成し、それを取り囲む外周部9を半透明位相シフト膜2a及びその上に積層される遮光膜11aによって形成する。有効領域8内のパターン10上には、遮光層11aは残さない。外周部9内にフィデューシャルマーク等の補助マークを設ける場合には、その補助マークの上にも遮光層が残される。
請求項（抜粋）：
透明基板の上に半透明位相シフト膜を積層して成るハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、有効領域内の所定パターンの形状に半透明位相シフト膜を有し、有効領域外の外周部に形成された半透明位相シフト膜の上に遮光膜を設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F 1/08 A
, G03F 1/08 L
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
