特許
J-GLOBAL ID：200903071298397374
薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三反崎 泰司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-369599
公開番号（公開出願番号）：特開2001-184611
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：
【要約】【課題】 製造工程を複雑化させることなく高性能のヘッド特性を実現可能とする薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法を提供する。【解決手段】 薄膜コイル11の内周端部に、これと一体をなすようにコイル接続部11dを配設する。上部ポールチップ25aを形成する際には、同時に、コイル接続部11d上に接続中間パターン25dを配設して、接続中間パターン25dの上面の位置が上部ポールチップ25aの上面の位置よりも高くなるようにする。全体を絶縁膜26で覆ったのち、上部ポールチップ25aが露出するまで絶縁膜26の表面を研磨することにより、接続中間パターン25dをも露出させることができる。したがって、接続中間パターン25dを配設しない場合とは異なり、絶縁膜26の一部を部分的に除去して開口部分を形成する工程が不要となるので、製造工程を削減することができる。
請求項（抜粋）：
記録媒体に対向する記録媒体対向面側の一部に、ギャップ層を介して対向する2つの磁極を含む、互いに磁気的に連結された2つの磁性層と、前記2つの磁性層の間に絶縁層を介して配設された薄膜コイル部とを有すると共に、前記2つの磁性層のうちの一方の磁性層が、トラック幅を画定する一定幅部分を有する第1の磁性層部分と、前記薄膜コイル部の配設領域を覆うと共に前記第1の磁性層部分の一部と部分的にオーバーラップして磁気的に連結された第2の磁性層部分とを有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記薄膜コイル部の一部をなす第1の薄膜コイル層を形成すると同時に、前記薄膜コイル部の一部をなす第1の接続パターンを、前記第1の薄膜コイル層の端部に前記第1の薄膜コイル層と一体をなすように形成する第1の工程と、前記記録媒体対向面からこの面と離れる方向に延在するように前記第1の磁性層部分を形成すると同時に、前記第1の接続パターン上に前記薄膜コイル部の一部をなす第2の接続パターンを形成する第2の工程と、少なくとも前記第1の薄膜コイル層、前記第1の接続パターン、前記第1の磁性層部分および前記第2の接続パターンを覆うように前記絶縁層を形成する第3の工程と、少なくとも前記第1の磁性層部分および前記第2の接続パターンの双方が露出するまで前記絶縁層の表面を研磨して平坦化する第4の工程と、前記第2の接続パターンの露出部分と電気的に接続されるように導電層パターンを形成する第5の工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
FI (2件)：
G11B 5/31 A
, G11B 5/31 F
5D033AA02
, 5D033BA13
, 5D033BA31
, 5D033BA36
, 5D033BA41
, 5D033DA01
, 5D033DA03
, 5D033DA04
, 5D033DA08
, 5D033DA31
