特許
J-GLOBAL ID：200903071314637224
純水製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-304622
公開番号（公開出願番号）：特開平5-000300
出願日： 1984年10月24日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】 高純度の純水を容易かつ効率的に、低コストで製造する。【構成】 被処理水に紫外線を照射し、含有される有機物を有機酸に酸化する紫外線照射装置1と、該紫外線照射装置1からの有機酸を含む処理水を処理するアニオン交換装置2と、該アニオン交換装置2からの残留イオン性物質を除去する混床式イオン交換装置3とを備えてなる。【効果】 TOC濃度の極めて低い純度の高い純水を短時間で製造することが可能となる。有機物の過剰酸化による電力の過大消費が回避され、紫外線酸化に必要な電力量を低減することができる。混床式イオン交換装置の再生頻度も大幅に低減できる。工程管理が容易となると共に、装置のランニングコストを大幅に低減することができ、装置の小型化も可能となる。
請求項（抜粋）：
被処理水に紫外線を照射し、含有される有機物を有機酸に酸化する紫外線照射装置と、該紫外線照射装置からの有機酸を含む処理水を処理するアニオン交換装置と、該アニオン交換装置から残留微量イオン性物質を除去する混床式イオン交換装置とを備えてなることを特徴とする純水製造装置。
IPC (4件)：
C02F 9/00
, C02F 1/32
, C02F 1/42
, C02F 1/72 101
