特許
J-GLOBAL ID:200903071316454410
欠陥検査方法及び欠陥検査装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
本庄 武男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-093226
公開番号(公開出願番号):特開2001-283195
出願日: 2000年03月30日
公開日(公表日): 2001年10月12日
要約:
【要約】【課題】 検査対象を撮像して得られた検査画像と,予め取得された基準画像とに基づいて,上記検査対象の欠陥を検査する従来の欠陥検査では,とりわけ上記検査対象に対応した対象領域の外周部分にある比較的浅い欠陥を精度よく高速に検出することが困難であった。【解決手段】 本発明は,上記基準画像に現れている上記検査対象に対応した対象領域と,上記対象領域以外の背景領域との境界線を抽出し,前記境界線に沿って,上記検査画像の各画素を所定量移動させたシフト画像を生成し,前記シフト画像と上記検査画像との各対応画素間の差異に基づいて上記検査対象の欠陥を検査することにより,上記比較的浅い欠陥を精度よく高速に検出することを図ったものである。
請求項(抜粋):
検査対象を撮像して得られた検査画像と,予め取得された基準画像とに基づいて,上記検査対象の欠陥を検査する欠陥検査方法において,上記基準画像に現れている上記検査対象に対応した対象領域と,上記対象領域以外の背景領域との境界線を,上記基準画像から抽出し,上記抽出された境界線に沿って,上記検査画像の各画素を所定量移動させたシフト画像を生成し,上記生成されたシフト画像と上記検査画像との各対応画素間の差異に基づいて上記検査対象の欠陥を検査してなることを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (3件):
G06T 1/00 305
, G01N 21/956
, H05K 3/00
FI (3件):
G06T 1/00 305 A
, G01N 21/956 B
, H05K 3/00 Q
Fターム (25件):
2G051AA65
, 2G051AB02
, 2G051AB07
, 2G051CA04
, 2G051DA07
, 2G051EA08
, 2G051EA11
, 2G051EA14
, 2G051EA20
, 2G051ED04
, 2G051ED07
, 2G051ED08
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CB08
, 5B057CB12
, 5B057CC01
, 5B057CD02
, 5B057DA03
, 5B057DA08
, 5B057DB02
, 5B057DB09
, 5B057DC16
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