特許
J-GLOBAL ID：200903071318714649
精密光学素子洗浄方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-158066
公開番号（公開出願番号）：特開平8-003778
出願日： 1994年06月15日
公開日（公表日）： 1996年01月09日
要約：
【要約】【目的】 精密光学素子表面に水シミによる汚れを発生させない。【構成】 第1工程は精密光学素子(被洗浄物6)を水溶性溶剤(IPA3)に浸漬する。第2工程は被洗浄物6を非水溶性溶剤(オクタン4)に浸漬し、IPA3をオクタン4で置換する。ここで、第2工程で用いる非水溶性溶剤として、水溶性溶剤を30wt%以上溶解する溶剤を用いる。また、非水溶性溶剤に周波数20kHz〜100kHzの超音波振動を与える。第3工程はオクタン4を乾燥する。
請求項（抜粋）：
精密光学素子を水溶性溶剤に浸漬する第1工程と、前記工程によって精密光学素子表面に付着した水溶性溶剤を非水溶性溶剤に浸漬し非水溶性溶剤にて置換する第2工程と、前記工程により精密光学素子表面に付着した非水溶性溶剤を乾燥させる第3工程とを有する洗浄方法において、第2工程に用いる非水溶性溶剤として水溶性溶剤を30wt%以上溶解する溶剤を用い、且つ非水溶性溶剤に周波数20kHz〜100kHzの超音波振動を与えることを特徴とする精密光学素子洗浄方法。
IPC (5件)：
C23G 5/02
, B08B 3/08
, C11D 7/22
, C11D 7/24
, C11D 7/26
