特許
J-GLOBAL ID:200903071325244143

液晶表示装置およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-220469
公開番号(公開出願番号):特開平6-067204
出願日: 1992年08月19日
公開日(公表日): 1994年03月11日
要約:
【要約】【目的】 光照射によるTFTの特性変化がなく、かつ、表示部の液晶分子の配向が良好な、表示品位の高い液晶表示装置およびその製造方法を提供する。【構成】 アクティブマトリックス型液晶表示装置において、2枚の基板15a、15bの間には液晶が挟持されており、基板15a上にはTFT16と絵素電極9とが設けられている。また、基板15a上の絵素電極9の表示部以外の部分には遮光膜11が形成されている。TFT16上方部分の遮光膜11は、TFT16に光による特性変化が起こらないように充分厚く形成されており、その他の部分の遮光膜11の膜厚は、表示部の液晶分子の配向が良好であるような膜厚に形成されている。
請求項(抜粋):
2枚の基板間に液晶が挟持され、一方の基板上に薄膜トランジスタと絵素電極とがマトリクス状に設けられ、該絵素電極の表示部以外の該一方の基板部分を覆って遮光膜が形成されているアクティブマトリクス型液晶表示装置において、該遮光膜が、該薄膜トランジスタの上方部分における膜厚を、その他の部分よりも厚くして形成されている液晶表示装置。
IPC (2件):
G02F 1/136 500 ,  H01L 29/784

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