特許
J-GLOBAL ID:200903071325665106

ウエーハ加熱用ヒータ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石戸 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-276969
公開番号(公開出願番号):特開平5-090177
出願日: 1991年09月26日
公開日(公表日): 1993年04月09日
要約:
【要約】【目的】 ウェーハの温度を均一にする。【構成】 ウェーハ7を低圧反応ガス雰囲気中で加熱する抵抗加熱型ヒータ1の端部に、該ヒータ1の端部分1Aの温度低下を補償する補助ヒータ3を設ける。
請求項(抜粋):
反応室内にウェーハ置台を設け、このウェーハ置台上にサセプタを設け、このサセプタ上にウェーハを載置し、ウェーハ置台の下方に抵抗加熱型ヒータを設け、このヒータによりサセプタを介してウェーハを低圧反応ガス雰囲気中で加熱し、ウェーハ表面にCVD膜を生成するCVD装置において、電力が印加される抵抗加熱型ヒータ(1)の端部に、該ヒータ(1)の端部分(1A)の温度低下を補償する補助ヒータ(3)を設けてなるウェーハ加熱用ヒータ。
IPC (2件):
H01L 21/205 ,  H01L 21/31
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 特開昭63-278322
  • 特開昭51-135363

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