特許

J-GLOBAL ID：200903071340219627

ガス供給装置

発明者： ローレンス デュエイン バーソロミュー ,  スーン ケイ ユー ,  グレゴリー マーク スタンボ ,  マーク ビー キング ,  ジェフリー チャン
出願人/特許権者： シリコン ヴァレイ グループ サーマル システムズ リミテッド ライアビリティ カンパニー
代理人 (1件)： 中村 稔 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-144513
公開番号（公開出願番号）：特開2001-011636
出願日： 2000年05月17日
公開日（公表日）： 2001年01月16日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 化学蒸着装置に関し、シールドガスを実質的に一定且つ等しい流量で多数の経路を通してチャンバーに導入するための改良ガス供給装置を提供する。【解決手段】 本発明は基質を処理するためにガスをチャンバーに多数の供給量で供給するための装置および方法を提供する。装置155は処理ガスインゼクタ190と、処理ガスインゼクタに隣接して多数のシールド体210,215を有するシールド組立体200とを備えている。各シールド体210,215はスクリーン230と、シールドガスをスクリーンを通して供給するために列状の穴245を設けた計量管240とを有している。シールドガスは多数の流路255を通して計量管240に供給され、各流路255はシールド体210,215の各々からシールドガスの等しい流量が与えられるように寸法決めされたオリフィス270を持つ流量制限体265を有している。

請求項（抜粋）：

化学蒸着装置用のシールド組立体において、(a) 各々がスクリーンと、スクリーンを通してシールドガスを供給するために列状の穴を持つ導管とを有する複数のシールド体と、(b) シールドガスを供給するために少なくとも一つが各導管に連結された複数の流路と、(c)複数の流路の各々に設けられる流量制限体とを備えており、流量制限体は複数のシールド体の各々から実質的に等しいシールドガスの流量が与えられるように寸法決めされた横断面積(Aorifice)を持つオリフィスを有していることを特徴とするシールド組立体。

IPC (2件)：

C23C 16/455 ,  C23C 16/448

FI (2件)：

C23C 16/455 ,  C23C 16/448

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特許第2938070号
  
• 常圧CVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-000620   出願人：ソニー株式会社
• 特開平1-283376
  
• 特開昭63-190171