特許

J-GLOBAL ID：200903071353110950

半導体洗浄排水の処理方法

発明者： 小泉 求 ,  老沼 正芳
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-176776
公開番号（公開出願番号）：特開平8-039058
出願日： 1994年07月28日
公開日（公表日）： 1996年02月13日
要約：

【要約】【目的】 有機アルカリを含む半導体洗浄排水を工業用水と混合して生物処理した後、一次純水製造装置及び二次純水製造装置に通水して高純度超純水を製造する。【構成】 有機アルカリを含む半導体洗浄排水をカチオン交換樹脂でカチオン交換処理した後、工業用水と混合して生物処理する。【効果】 生物処理で除去し難く、しかも、他の有機物の除去を阻害する有機アルカリをカチオン交換樹脂により予め除去することにより、生物処理効率を高めることが可能とされる。

請求項（抜粋）：

有機アルカリを含む半導体洗浄排水を工業用水と混合して生物処理する半導体洗浄排水の処理方法において、有機アルカリを含む半導体洗浄排水をカチオン交換樹脂でカチオン交換処理した後、工業用水と混合することを特徴とする半導体洗浄排水の処理方法。

IPC (10件)：

C02F 1/42 ZAB ,  B01J 39/04 ,  B01J 41/04 ,  C02F 3/08 ZAB ,  C02F 3/10 ZAB ,  C02F 9/00 ZAB ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504