特許

J-GLOBAL ID：200903071364206402

超純水製造装置

発明者： 知野 秀一 ,  中村 穰 ,  木暮 雅彦
出願人/特許権者： 野村マイクロ・サイエンス株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-007207
公開番号（公開出願番号）：特開平9-192658
出願日： 1996年01月19日
公開日（公表日）： 1997年07月29日
要約：

【要約】【課題】超純水中のTOC濃度および溶存酸素濃度の増加と機器の劣化とをほぼ防止する超純水製造装置を提供すること。【解決手段】一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する第1の紫外線照射装置と、190nmを越える波長からなる紫外線を発生する第2の紫外線照射装置と、膜脱気装置と、ポリッシャー装置とを流路に沿って配置する、あるいはアニオン交換樹脂を充填した単床式イオン交換装置と、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、膜脱気装置と、ポリッシャー装置とを流路に沿って配置する、または180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する紫外線照射装置と、パラジウム触媒樹脂を充填した触媒樹脂装置と、ポリッシャー装置とを流路に沿って配置することを特徴とする超純水製造装置による。

請求項（抜粋）：

一次純水から超純水を製造する超純水製造装置において、180〜190nmの波長を有する紫外線を発生する第1の紫外線照射装置と、190nmを越える波長からなる紫外線を発生する第2の紫外線照射装置と、膜脱気装置と、ポリッシャー装置とを流路に沿って配置したことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (8件)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 ,  B01D 61/02 500 ,  B01J 23/44 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/70

FI (8件)：

C02F 1/32 ,  B01D 19/00 H ,  B01D 61/02 500 ,  B01J 23/44 M ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/42 A ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/70 Z