特許

J-GLOBAL ID：200903071367517395

光学的潜像形成可能なはんだマスク及び感光組成物

発明者： チヤールズ・アール・シツプリイ・ジユニア
出願人/特許権者： シツプリイ・カンパニイ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-360822
公開番号（公開出願番号）：特開平5-165215
出願日： 1991年12月10日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】極性基置換を有する少なくとも1種のポリマーと、光重合開始剤と、架橋用もしくは重合性の不飽和モノマーとを溶解させた有機溶液を含む、水性物質で現像可能な感光組成物。この組成物は、活性化放射線で露光し、かつベークした後に弱有機酸の水溶液で現像可能である。硬化させ、かつ光学的に潜像形成した本発明組成物から成るマスクは、本発明組成物をプリント回路板のための光学的潜像形成可能なはんだマスクとして用い、また完全付加型プリント回路板の製造で恒久的な誘電マスクとして用いる。【効果】本発明の組成物は強酸性溶液と強アルカリ性溶液との両方を含めた強刺激性の化学溶液に対して意外な耐性を有し、かつ銅その他の金属並びに多くの非導電性基板材料に付着するので、光学的に潜像形成した本発明組成物から成るマスクを多くの用途に一時的なマスクとして適用することも可能である。

請求項（抜粋）：

製品を製造する方法であって、(a) 像パターンどおりに変化させるべき基板を用意するステップ、(b) 前記基板を、極性基置換を有する少なくとも1種のポリマーと、架橋用もしくは重合性の不飽和モノマーまたはオリゴマーと、活性化放射線での露光の際に混合物の光重合を開始し得る光重合開始剤とを含有する、水性物質で現像可能なネガ型の感光混合物の均質な有機溶剤溶液で被覆し、生じた被膜を乾燥するステップ、(c) このように形成した感光被膜を活性化放射線源で像パターンどおりに露光し、かつ水性の酸性現像液で現像するステップ、及び(d) 被膜下の基板の露出した部分を変化させるステップを含む該方法。

IPC (6件)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28