特許
J-GLOBAL ID：200903071379718043
磁気抵抗効果型ヘッド及びその製造方法並びに磁気記憶装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-248010
公開番号（公開出願番号）：特開2000-076629
出願日： 1998年09月02日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：
【要約】【課題】 挟トラック幅に対応した高出力な磁気抵抗効果型ヘッドを提供する。かかる磁気抵抗効果型ヘッドを容易にかつ確実に製造することができるな磁気抵抗効果型ヘッドの製造方法を提供する。かかる磁気抵抗効果型ヘッドを用いて、面記録密度で20ギガビット/平方インチを超える記録再生を行うことができる磁気記憶装置を提供する。【解決手段】 磁気抵抗効果型ヘッドを実効的な再生トラック幅が0.5μm以下、感磁領域100にバイアスを印加する一対の永久磁石膜23間の間隔が電流を供給する一対の電極膜24間の間隔より0.3μm以上長くする。永久磁石膜23と電極膜24を別のフォトマスクを用いてイオンビームスパッタ法で成膜する。かかる磁気抵抗効果型ヘッドを用いた記録再生ヘッドとする。
請求項（抜粋）：
媒体磁界を感磁する磁気抵抗効果を有する感磁領域と、前記感磁領域に電流を供給する互いに離間した一対の電極膜と、前記感磁領域にバイアス磁界を印加する互いに離間した一対の永久磁石膜とを備える磁気抵抗効果素子を有する磁気抵抗効果型ヘッドにおいて、実効的な再生トラック幅が0.1μm〜0.5μmであり、かつ、前記一対の永久磁石膜間の間隔が前記一対の電極膜間の間隔より0.3μm〜10μmであることを特徴とする磁気抵抗効果型ヘッド。
Fターム (5件)：
5D034BA03
, 5D034BA05
, 5D034BA09
, 5D034CA04
, 5D034DA07
