特許

J-GLOBAL ID：200903071385879865

廃水の浄化処理方法及びその装置

発明者： 浦嶋 敏充 ,  石田 文男 ,  笹沢 一雄 ,  熊倉 稔
出願人/特許権者： 太陽化学工業株式会社
代理人 (1件)： 佐野 忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-097177
公開番号（公開出願番号）：特開2000-288547
出願日： 1999年04月05日
公開日（公表日）： 2000年10月17日
要約：

【要約】【目的】特に染料等を含有する着色廃水の処理に優れ、低濃度から高濃度まで幅広く、浄化処理されるべき物質を含有する廃水に対応可能な廃水の浄化処理方法及びその装置を提供する。【構成】廃水を対極として該廃水外に他方の電極を設け、該廃水の水面と該他方の電極との間にプラズマ放電を起こし、該廃水中にラジカルを発生させるプラズマ放電工程を有する廃水の浄化処理方法及びその装置。【効果】上記目的を達成する。

請求項（抜粋）：

廃水を対極として該廃水外に他方の電極を設け、該廃水の水面と該他方の電極との間にプラズマ放電を起こし、該廃水中に酸化能力のある活性種を発生させるプラズマ放電工程を有する廃水の浄化処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/46 ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/72

FI (3件)：

C02F 1/46 Z ,  C02F 1/58 D ,  C02F 1/72 Z

Fターム (17件)：

4D038AA08 ,  4D038AB03 ,  4D038BB10 ,  4D038BB16 ,  4D050AA13 ,  4D050AB03 ,  4D050BB20 ,  4D050CA10 ,  4D061DA08 ,  4D061DB20 ,  4D061DC03 ,  4D061EA01 ,  4D061EB01 ,  4D061EB14 ,  4D061EB19 ,  4D061EB29 ,  4D061ED20