特許
J-GLOBAL ID：200903071406127699
プロセスガス供給ユニット
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
富澤 孝 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-122525
公開番号（公開出願番号）：特開平10-311451
出願日： 1997年05月13日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：
【要約】【課題】 パージ弁と逆止弁とが直列に連通されたものをプロセスガスフローに接続する小型化・集積化したプロセスガス供給ユニットを提供すること。【解決手段】 供給弁13の入力ポート28とプロセスガス外部入口18とを連通するプロセスガス入力流路20と、供給弁13の出力ポート27とプロセスガス外部出口19とを連通するプロセスガス出力流路21と、パージ弁12の出力ポート29とプロセスガス出力流路21とを連通させるパージ出力流路22と、パージ弁12の入力ポート30と逆止弁14の出口ポート31とを連通させる逆止弁出力流路23と、逆止弁14の入力ポート32とパージガス外部入口26とを連通する斜め流路24・交差流路25とが形成されたマニホールド16・下側流路ブロック33を有している。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置に対してプロセスガスを供給するための供給弁と、不活性ガスを供給するためのパージ弁と、不活性ガス源と該パージ源との流路に設けられた逆止弁とを有するプロセスガス供給ユニットにおいて、前記供給弁と、前記パージ弁と、前記逆止弁とが取り付けられるブロックであって、前記供給弁の入力ポートとプロセスガス外部入口とを連通するプロセスガス入力流路と、前記供給弁の出力ポートとプロセスガス外部出口とを連通するプロセスガス出力流路と、前記パージ弁の出力ポートと前記プロセスガス出力流路とを連通させるパージ出力流路と、前記パージ弁の入力ポートと前記逆止弁の出力ポートとを連通させる逆止弁出力流路と、前記逆止弁の入力ポートとパージガス外部入口とを連通するパージガス入力流路とが形成されたマニホールドを有することを特徴とするプロセスガス供給ユニット。
IPC (4件)：
F16K 27/00
, F16K 7/17
, F16K 15/02
, F16K 51/00
F16K 27/00 D
, F16K 7/17 A
, F16K 15/02
, F16K 51/00 A
