特許

J-GLOBAL ID：200903071411244156

オゾン脱臭装置

発明者： 渡辺 正典 ,  早矢仕 文男 ,  太宰 啓至
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 山田 恒光 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-328475
公開番号（公開出願番号）：特開平10-165757
出願日： 1996年12月09日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：

【要約】【課題】 排水処理槽の臭気を効率よく取り除けるようにする。【解決手段】 オゾンを生成するオゾン発生器24と、汚水を処理する排水処理槽16の内方上部に配置され且つオゾンと水とを混合噴霧する霧化ノズル27と、オゾン発生器24により生成されるオゾンを霧化ノズル27へ送給する圧縮機25と、水を霧化ノズル27へ送給するポンプ26とを備え、霧化ノズル27から排水処理槽16の内部へ噴霧されるオゾン及び微細水粒によって汚水の液面を覆い、また、オゾン及び微細水粒の水分子により高活性なヒドロキシラジカルを生成して臭気成分を酸化し、排水処理槽16の外部への臭気の拡散を抑止する。

請求項（抜粋）：

オゾンを生成するオゾン発生器と、汚水を処理する排水処理槽の内方上部に配置され且つオゾンと水とを混合噴霧する霧化ノズルと、オゾン発生器により生成されるオゾンを霧化ノズルへ送給する送気手段と、水を霧化ノズルへ送給する送水手段とを備えてなることを特徴とするオゾン脱臭装置。

IPC (5件)：

B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  B01D 53/34 ZAB ,  C02F 1/00 ,  C02F 1/78

FI (4件)：

B01D 53/34 116 F ,  C02F 1/00 F ,  C02F 1/78 ,  B01D 53/34 ZAB

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 地下空間空気の脱臭方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-081717   出願人：西松建設株式会社, 株式会社ブイエムシー
• 特開昭55-034162