特許
J-GLOBAL ID:200903071449543165

新規ポリマーを含むフォトレジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 江崎 光史 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-522496
公開番号(公開出願番号):特表2001-524695
出願日: 1998年11月10日
公開日(公表日): 2001年12月04日
要約:
【要約】フェノール誘導体と置換されたジフェニルエーテルとを縮合させることによって得られる成膜性樹脂、光活性化合物及び溶剤を含むフォトレジスト組成物。このフォトレジスト組成物は、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性の成膜性樹脂を含んでいてもよい。本発明のフォトレジストは、フォトレジスト画像の感光速度、解像度及び熱安定性を向上させる。
請求項(抜粋):
a) 以下の構造(1) の置換されたジフェニルエーテルと以下の構造(2) のフェノ ール類との酸触媒下での反応生成物である新規ポリマー:【化1】【化2】 [ 式中、R1〜R9は、互いに独立して、H、OH、ハロゲン、(C1-C4) アルキ ル、(C1-C4) アルコキシ、アリールまたはアラルキルであり、mは1〜5 であり、そしてnは1〜4である]b) 光活性化合物、及びc) フォトレジスト溶剤組成物を含んでなるフォトレジスト組成物。
IPC (4件):
G03F 7/023 511 ,  C08G 61/12 ,  C08L 61/04 ,  C08L 65/00
FI (4件):
G03F 7/023 511 ,  C08G 61/12 ,  C08L 61/04 ,  C08L 65/00
Fターム (30件):
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC11 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002BC121 ,  4J002CC031 ,  4J002CE002 ,  4J002EV246 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J002HA05 ,  4J032CA04 ,  4J032CA14 ,  4J032CB04 ,  4J032CD00 ,  4J032CG00

前のページに戻る