感光性樹脂組成物、感光性積層体及びフレキシブルプリント板の製造法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-125094
公開番号（公開出願番号）：特開平9-311450
出願日： 1996年05月20日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【課題】感度及び光硬化性に優れ、フォトリソグラフィーによりパターンを精度良く形成でき、耐折性、はんだ耐熱性、難燃性、フィルム上への塗布作業性に優れた感光性樹脂組成物及びこの組成物を用いた積層体を提供すること。【解決手段】 (A)ポリテトラメチレングリコール変性ジカルボン酸を必須成分として含んでなる多価カルボン酸成分とジイソシアネートとの反応生成物とエポキシ樹脂とを反応させて得られるエポキシ基含有ポリアミド系樹脂及び/又はこの樹脂にさらにモノカルボン酸を反応させて得られるエポキシ基封鎖型ポリアミド樹脂に対して、不飽和イソシアネート単量体を反応させて得られる不飽和イソシアネート変性ポリアミド系樹脂、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する光重合性不飽和化合物及び(C)光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物及びこの組成物の層を有する感光性積層体。

請求項（抜粋）：

(A)ポリテトラメチレングリコール変性ジカルボン酸を必須成分として含んでなる多価カルボン酸成分(a)とジイソシアネート(b)とを当量比〔(a)のカルボキシル基/(b)のイソシアネート基〕が1を超える条件で反応させて得られるカルボン酸含有ポリアミド系樹脂(c)に対して、エポキシ樹脂(d)を当量比〔(d)のエポキシ基/(c)のカルボキシル基〕が1以上となる条件で反応させて得られるエポキシ基含有ポリアミド系樹脂(e)及び/又は(e)に対してモノカルボン酸(f)を当量比〔(f)のカルボキシル基/(e)のエポキシ基〕が1以上となる条件で反応させて得られるエポキシ基封鎖型ポリアミド樹脂(g)に対して、エチレン性不飽和基を有するイソシアネート単量体(h)を当量比〔(h)のイソシアネート基/(e)及び/又は(g)の水酸基〕が0.05〜2となる条件で反応させて得られる不飽和イソシアネート変性ポリアミド系樹脂、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する光重合性不飽和化合物及び(C)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有してなることを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (21件)：

G03F 7/038 504 , B32B 27/16 , B32B 27/18 , B32B 27/34 , C08F 2/48 MDH , C08F283/04 MQT , C08F290/06 MRP , C08F299/02 , C08K 5/00 , C08L 63/00 NKE , C08L 77/00 KKU , C09D 4/00 PDU , C09D 4/02 PDR , G03F 7/004 512 , G03F 7/027 502 , G03F 7/027 513 , G03F 7/028 , G03F 7/40 501 , H05K 1/03 670 , H05K 3/28 , C08G 18/67 NFA

FI (21件)：

G03F 7/038 504 , B32B 27/16 , B32B 27/18 Z , B32B 27/34 , C08F 2/48 MDH , C08F283/04 MQT , C08F290/06 MRP , C08F299/02 , C08K 5/00 , C08L 63/00 NKE , C08L 77/00 KKU , C09D 4/00 PDU , C09D 4/02 PDR , G03F 7/004 512 , G03F 7/027 502 , G03F 7/027 513 , G03F 7/028 , G03F 7/40 501 , H05K 1/03 670 A , H05K 3/28 D , C08G 18/67 NFA

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