特許
J-GLOBAL ID：200903071450984990
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性ソルダーレジストの製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-026022
公開番号（公開出願番号）：特開平11-223946
出願日： 1998年02月06日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：
【要約】【課題】 プリント配線板の製造に適用できる250°C以下の加熱硬化により、耐PCT性、はんだ耐熱性等の耐熱性に優れ、また耐めっき液性や耐薬品性、電気絶縁性等のソルダーレジストに必要な諸特性に優れ、また作業環境の良い水系の現像液を用いて現像できる保存安定性に優れる感光性樹脂組成物、及びこれを用いたソルダーレジストの製造法を提供する。【解決手段】 (A)ポリイミド前駆体、(B)光重合性不飽和化合物、(C)光重合開始剤、(D)ブロック化イソシアネート樹脂、(E)チオール基を少なくとも1個含有するヘテロ環状化合物を含有してなることを特徴とする感光性樹脂組成物、これを用いた感光性ソルダーレジストの製造法。
請求項（抜粋）：
(A)一般式(I)【化1】(式中、R1 は炭素原子数が2〜30の4価の有機基を示し、R2 は炭素原子数2〜240の2価の有機基を示し、Xはそれぞれ独立にOH又は炭素原子数1〜30の1価の有機基を示し、R3 は水素、ハロゲン、ニトロ基又は炭素数1〜9のアルキル基を示し、n’は1〜4の整数であり、【化2】は繰り返し単位を表わす)で表わされるポリイミド前駆体、(B)末端にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する光重合性不飽和化合物、(C)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤、(D)ブロック化イソシアネート樹脂、及び(E)チオール基を少なくとも1個含有するヘテロ環状化合物、を含有してなることを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (8件)：
G03F 7/037 501
, C08F 2/48
, C08F299/06
, C09D 4/06
, G03F 7/027 513
, G03F 7/028
, H05K 3/18
, H05K 3/28
G03F 7/037 501
, C08F 2/48
, C08F299/06
, C09D 4/06
, G03F 7/027 513
, G03F 7/028
, H05K 3/18 D
, H05K 3/28 D
