特許
J-GLOBAL ID：200903071465743190
推力制御バルブ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
西教 圭一郎
, 杉山 毅至
, 廣瀬 峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-041730
公開番号（公開出願番号）：特開2004-251181
出願日： 2003年02月19日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：
【課題】推進用ガスによるプラグへの負荷力を低減させ、消費する推進用ガスの流量を低減し、飛翔体の誘導精度を劣化させるノイズの発生を抑制する。【解決手段】プラグ53に、ガス噴射室43およびガス通路45間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス供給室42からガス噴射室43へ移動する方向C1に負荷力F0を発生する受圧面61,62が形成されるガス噴射室側受圧部63と、ガス供給室42およびガス通路45間で移動自在に配置され、推進用ガスの圧力によってガス噴射室43からガス供給室42へ移動する方向C2に負荷力F1を発生する受圧面64が形成されるガス供給室側受圧部65とを設ける。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
推進用ガスが供給されるガス供給室と、前記推進用ガスを噴出するガス噴射室と、ガス供給室およびガス噴射室を共通な軸線上で連通するガス通路とが形成されるノズルと、
ノズルヘッドの前記ガス供給室、ガス通路およびガス噴射室にわたって前記軸線方向に移動自在に挿入され、この軸線方向の移動によって、ガス供給室に臨む内周面と、この内周面に対向する外周面との間に形成されるガス供給室側流路、およびガス噴射室に臨む内周面と、この内周面に対向する外周面との間に形成されるガス噴射室側流路の各流路断面積を同時に変化させて、推進用ガスの噴射による推力を制御するプラグとを含むことを特徴とする推力制御バルブ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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