特許
J-GLOBAL ID：200903071504320570
低い残留応力を有する平板ガラスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
鈴江 武彦
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
, 白根 俊郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-329285
公開番号（公開出願番号）：特開2004-115357
出願日： 2002年11月13日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：
【課題】熱処理又は研磨工程を必要としない、非常に低い残留応力を有する平坦ガラス基板の製造。【解決手段】1)Lcmの幅を有する溶融ガラス基板の幅を横切る横線上で、中央部の最高温度地点及び末端部から中央側に0.005Lcm離れた最低温度地点間の温度勾配を0〜0.10°C/mmの範囲で漸進的に増加させる流体段階、2)前記温度勾配を0.10〜0.03°C/mmの範囲で漸進的に減少させる流体からガラス質への転移段階、3)前記温度勾配を0.03〜0.10°C/mmの範囲で漸進的に増加させるガラス質への転移完了段階、及び4)前記温度勾配を漸進的に減少させるガラス質段階を含み、この時、前記段階2)及び3)の最終温度勾配値間の差を0.01〜0.04°C/mmの範囲内に調節することを含む、平板ガラスの製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
1)Lcmの幅を有する溶融ガラス基板の幅を横切る横線上で、中央部の最高温度地点及び末端部から中央側に0.005Lcm離れた最低温度地点間の温度勾配を0〜0.10°C/mmの範囲で漸進的に増加させる流体段階、
2)前記温度勾配を0.10〜0.03°C/mmの範囲で漸進的に減少させる流体からガラス質への転移段階、
3)前記温度勾配を0.03〜0.10°C/mmの範囲で漸進的に増加させるガラス質への転移完了段階、及び
4)前記温度勾配を漸進的に減少させるガラス質段階を含み、
この時、前記段階2)及び3)の最終温度勾配値間の差を0.01〜0.04°C/mmの範囲内に調節することを含む、平板ガラスの製造方法。
IPC (3件)：
C03B17/00
, H01J9/24
, H01J17/16
C03B17/00
, H01J9/24 A
, H01J17/16
5C012AA09
, 5C012BB01
, 5C040FA10
, 5C040GA09
, 5C040KA07
, 5C040KB11
, 5C040MA22
, 5C040MA23
