特許

J-GLOBAL ID：200903071508730853

リソグラフィ用レジスト

発明者： グレゴリー・ディー・クーパー ,  ツィユン・チェン ,  ゴーネン・ウィリアムズ・サーピル ,  ラリー・エフ・トンプソン
出願人/特許権者： ピクセリジェント・テクノロジーズ・エルエルシー
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-519466
公開番号（公開出願番号）：特表2009-543159
出願日： 2007年07月06日
公開日（公表日）： 2009年12月03日
要約：

本開示は、2段技術を使用して非線形のリソグラフィ用レジストを提供する、多段可逆的光化学反応を伴う新しい経路を記載する。これらは、光の強度に二次で依存する露光を提供することができる。ナノ結晶を使用したいくつかの具体例も記載されているが、これらに限定されるものではない。これらのアプローチをダブルパターニングと組み合わせて回析限界以下の特徴密度を作製することができる。

請求項（抜粋）：

少なくとも1種のマトリックス材料と、 前記マトリックス材料によって担持されている少なくとも1種の光活性材料と を含むレジストであって、前記光活性材料が少なくとも1つの多段反応で化学種を生成し、前記化学種が前記レジストの溶解度を変化させ、前記化学種の生成が光の強度に非線形に依存しているレジスト。

IPC (3件)：

G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  G02F 1/361

FI (4件)：

G03F7/004 503Z ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 502C ,  G02F1/361

Fターム (13件)：

2H125AF00P ,  2H125AG00P ,  2H125CA12 ,  2H125CB18 ,  2H125CC01 ,  2H125CC03 ,  2H125FA03 ,  2K002AA04 ,  2K002BA01 ,  2K002CA06 ,  2K002CA13 ,  2K002GA10 ,  5F046AA13