特許

J-GLOBAL ID：200903071518665979

液体処理方法および装置

発明者： 足立 成人 ,  芳賀 潤二
出願人/特許権者： 株式会社神戸製鋼所
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-264200
公開番号（公開出願番号）：特開2003-071460
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2003年03月11日
要約：

【要約】【課題】 液体に対して高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させて液体を改質するに際し、被処理液への漏れ電流を抑制すべく設けた絶縁物の表面で発生する沿面放電を抑制し、効率よく放電処理を行うことのできる液体の処理方法およびその為の装置を提供する。【解決手段】 少なくとも一対の電極対を備えると共に、該電極対のうちの少なくとも一方の電極が絶縁物から突出して液体に浸漬される様に配置し、上記電極対間に高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させることにより、電極対間に存在する液体を改質する液体の処理方法において、該絶縁物における該液体に浸漬させた電極との境界部近傍に電界緩和領域を形成するようにし、例えば高誘電体材料を配置して前記電界緩和領域を形成する。

請求項（抜粋）：

少なくとも一対の電極対を備えると共に、該電極対のうちの少なくとも一方の電極が絶縁物から突出して液体に浸漬される様に配置し、上記電極対間に高電圧パルスを印加して電極間に放電状態を形成させることによって、電極対間に存在する液体を改質する液体の処理方法において、該絶縁物における該液体に浸漬させた電極との境界部近傍に電界緩和領域を形成することによって、該絶縁物表面で生じる沿面放電を軽減させるようにすることを特徴とする液体の処理方法。

Fターム (11件)：

4D061DA03 ,  4D061DA08 ,  4D061DB01 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061DC04 ,  4D061EA13 ,  4D061EB07 ,  4D061EB19 ,  4D061EB20 ,  4D061EB34