特許

J-GLOBAL ID：200903071533933327

試料像形成方法及び荷電粒子線装置

発明者： 佐藤 貢 ,  高根 淳 ,  飯泉 孝 ,  大高 正 ,  戸所 秀男 ,  山口 聡 ,  二村 和孝
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001010168
公開番号（公開出願番号）：WO2003-044821
出願日： 2001年11月21日
公開日（公表日）： 2003年05月30日
要約：

本発明の目的は、荷電粒子線照射による帯電の影響を回避しつつ、視野ずれの抑制を実現するのに好適な試料像形成方法,荷電粒子線装置の提供にある。上記目的を達成するために本発明では、試料上に荷電粒子線を走査し、試料から放出された二次信号に基づいて画像を形成する試料像形成方法において、複数回の走査で得られる複数の画像を合成して合成画像を複数形成し、当該複数の合成画像間の位置ずれを補正して画像を合成し、更なる合成画像を形成することを特徴とする試料像形成方法、及びこの方法を実現するための荷電粒子線装置を提供する。

請求項（抜粋）：

試料上に荷電粒子線を走査し、試料から放出された二次信号に基づいて画像を形成する試料像形成方法において、複数回の走査で得られる複数の画像を合成して合成画像を複数形成し、当該複数の合成画像間の位置ずれを補正して画像を合成し、更なる合成画像を形成することを特徴とする試料像形成方法。

IPC (5件)：

H01J37/22 ,  G01B15/00 ,  H01J37/147 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

FI (7件)：

H01J37/22 502H ,  H01J37/22 502A ,  H01J37/22 502B ,  G01B15/00 B ,  H01J37/147 B ,  H01J37/244 ,  H01J37/28 B