特許
J-GLOBAL ID:200903071536076069

光触媒及びその製造方法とそれを用いた水素の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 亀谷 美明 (外2名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-508627
公開番号(公開出願番号):特表平9-510657
出願日: 1995年08月29日
公開日(公表日): 1997年10月28日
要約:
【要約】本発明は,環境に無害であり,多量の水素を低温で発生させる水素製造用光触媒及び光触媒の製造方法と,これを用いて経済的に水素を製造する方法を提供することを目的とする。かかる光触媒は,(前記一般式Iにおいて,aはK4Nb6O17担体に対するCsの担支量を示す重量百分率で,0.05〜5.0の値を有する。)という一般式Iで表すことができる。光触媒は,K2CO3とNb2O5を混合した後,約1200〜1300°Cの温度で焼成して調製したK4Nb6O17担体に,無機体活性成分としてCsを担支させることにより調製する。水素は,光触媒の存在下で約15〜80°Cの反応温度,約0.1〜3気圧の圧力条件で酸素含有有機系促進剤を添加した後,紫外線光を照射して水の光分解により製造する。
請求項(抜粋):
下記一般式Iで表示されることを特徴とする水素製造用光触媒。 Cs(a)/K4Nb6O17・・・一般式I(前記一般式Iにおいて,aはK4Nb6O17担体に対するCsの担支量を示す重量百分率で,0.05〜5.0の値を有する。)
IPC (3件):
B01J 23/20 ,  B01J 35/02 ,  C01B 3/16
FI (3件):
B01J 23/20 M ,  B01J 35/02 J ,  C01B 3/16

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