特許
J-GLOBAL ID:200903071536285563
真空注型用中子およびその形成方法ならびにその中子を使った真空注型成形方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
平山 一幸 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-104471
公開番号(公開出願番号):特開2003-291149
出願日: 2002年04月05日
公開日(公表日): 2003年10月14日
要約:
【要約】【課題】 成形品の品質を向上させるとともに、工数低減を図り得る真空注型用中子とその形成方法、さらにその中子を使った真空注型成形方法を提供する。【解決手段】 真空下で型内に成形材料を注型して成形品を得る真空注型に使用する中子の形成方法は、成形製品の内径モデルを使って製品内径のキャビティを有する中子用注型型を形成する工程と、製品内径よりも小径の弾性体18をインサートして中子用注型型16に注型することにより中子本体11を成形する工程と、中子本体11を反転させて弾性体18を除去した後、中子本体11を復元し小粒体を充填する工程とを有する。
請求項(抜粋):
真空下で型内に成形材料を注型して成形品を得るようにした真空注型に使用する中子の形成方法であって、成形製品の内径モデルを使って製品内径のキャビティを有する中子用注型型を形成する工程と、製品内径よりも小径の弾性体をインサートして前記中子用注型型に注型することにより中子本体を成形する工程と、前記中子本体を反転させて前記弾性体を除去した後、前記中子本体を復元し小粒体を充填する工程とを有することを特徴とする中子の形成方法。
IPC (3件):
B29C 33/38
, B29C 39/02
, B29C 39/26
FI (3件):
B29C 33/38
, B29C 39/02
, B29C 39/26
Fターム (24件):
4F202AG07
, 4F202AJ05
, 4F202AM28
, 4F202CA01
, 4F202CB01
, 4F202CD02
, 4F202CD30
, 4F202CK81
, 4F204AD05
, 4F204AD18
, 4F204AG07
, 4F204AH55
, 4F204AM28
, 4F204EA03
, 4F204EB01
, 4F204EB11
, 4F204EF01
, 4F204EF05
, 4F204EF23
, 4F204EF27
, 4F204EK09
, 4F204EK24
, 4F204EW01
, 4F204EW50
引用特許:
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