特許

J-GLOBAL ID：200903071536495584

蒸気洗浄装置

発明者： 島ノ江 憲剛 ,  窪田 和彦 ,  大塚 進 ,  上村 賢一 ,  森 良弘
出願人/特許権者： 新日本製鐵株式会社
代理人 (1件)： 大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-099227
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283189
出願日： 1994年04月12日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：

【要約】【目的】 蒸気洗浄に於いて洗浄液に混合液を用いた場合でも温度むらを生じることがなくかつ効率良く加熱する。【構成】 ケーシング1の上部空間にキャリア4により半導体基板2を保持し、ケーシング1の底部に複数の貯留槽3a・3bを設け、各貯留槽3a・3bに洗浄液を構成する混合液の各組成別の各薬液S1・S2を貯留し、各貯留槽3a・3b内にそれぞれヒータ5a・5bを設ける。各薬液S1・S2毎に加熱して蒸気を発生させ、その蒸気により半導体基板2を蒸気洗浄する。【効果】 各薬液に応じた適切な蒸気発生制御を行うことができ、混合液に温度むらが発生することを防止でき、清浄度の高い蒸気洗浄を行い得る。

請求項（抜粋）：

ケーシングの上部空間に保持された被洗浄体を蒸気洗浄するための洗浄液の蒸気を発生する蒸気発生部を該ケーシングの下部に有する蒸気洗浄装置であって、前記蒸気発生部が、前記洗浄液を構成する複数種の薬液を別個に貯留するべく互いに独立して設けられた複数の貯留槽と、前記各貯留槽の前記各薬液を個々に蒸発させるべく前記各貯留槽毎に設けられた加熱手段とを有することを特徴とする蒸気洗浄装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭62-173720
  
• 被洗浄物の洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-282042   出願人：ジヤパン・フイールド株式会社