特許
J-GLOBAL ID：200903071544446983
ホトマスクの修正方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
清水 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-014998
公開番号（公開出願番号）：特開平7-005677
出願日： 1994年02月09日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：
【要約】【目的】 残留欠陥の除去に伴う新たな欠陥を生じることがなく、信頼性の高いホトマスクの修正方法を提供する。【構成】 位相シフトマスクのシフタ残留欠陥部25にGa-FIB26を照射してGaイオンを注入する工程と、そのGaイオン注入領域27にレーザ光28を照射してシフタ残留欠陥部25を蒸発除去する工程とを施す。
請求項（抜粋）：
(a)位相シフトマスクのシフタ残留欠陥部にGa-FIBを照射してGaイオンを注入する工程と、(b)該Gaイオン注入領域にレーザ光を照射して前記シフタ残留欠陥部を蒸発除去する工程とを施すことを特徴とするホトマスクの修正方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 502 W
, H01L 21/30 528
