特許

J-GLOBAL ID：200903071548033551

プロセス装置

発明者： 大見 忠弘
出願人/特許権者： 大見 忠弘
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-146332
公開番号（公開出願番号）：特開平5-315098
出願日： 1992年05月13日
公開日（公表日）： 1993年11月26日
要約：

【要約】【目的】 チャンバーを一切大気にさらすことなく、短時間でクリーニングの可能なプロセス装置を提供すること。【構成】 真空容器内に設けられた第1及び第2の少なくとも2つの電極を有し、前記第1の電極には第1の周波数を有する高周波電力が加えられ、前記第2の電極には前記第1の周波数とは異なる第2の周波数を有する高周波電力が加えられ、前記第2の電極上にウェハを保持する機構を有し、前記真空容器に導入したガスをプラズマ励起させる装置において、前記第2の電極と接地とのあいだのインピーダンスを前記第1の電極と接地とのあいだのインピーダンスより、必要に応じて充分大きくすることができる機構を有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

真空容器内に設けられた第1及び第2の少なくとも2つの電極を有し、前記第1の電極には第1の周波数を有する高周波電力が加えられ、前記第2の電極には前記第1の周波数とは異なる第2の周波数を有する高周波電力が加えられ、前記第2の電極上にウェハを保持する機構を有し、前記真空容器に導入したガスをプラズマ励起させる装置において、前記第2の電極と接地とのあいだのインピーダンスを前記第1の電極と接地とのあいだのインピーダンスより、必要に応じて充分大きくすることができる機構を有することを特徴とするプロセス装置。

IPC (6件)：

H05H 1/46 ,  C23C 14/22 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/31 ,  H05H 1/02