特許
J-GLOBAL ID:200903071562682651
ジフェニルメタンジイソシアネート及びポリフェニルポリメチレンポリイソシアネートを含み、塩素化副生物含有量及びヨウ素色数が共に低減された混合物の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
江藤 聡明
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-544630
公開番号(公開出願番号):特表2003-522725
出願日: 1999年04月12日
公開日(公表日): 2003年07月29日
要約:
【要約】ジフェニルメタンジイソシアネート及びポリフェニルポリメチレンポリイソシアネートを含み、塩素化副生物含有量及びヨウ素色数が共に低い混合物を、ジフェニルメタンジアミン及びポリフェニルポリメチレンポリアミンを含む対応する混合物を少なくとも1種の不活性有機溶剤の存在下にホスゲンと、高温にて2段階で反応させ、ホスゲン化終了後過剰のホスゲンと溶剤を分離し、そして反応生成物を熱処理することにより製造する方法であって、ホスゲン化の第2段階の滞留時間を有する装置における、ホスゲンの塩化水素に対する質量比が、液相で10〜30:1の範囲及び気相で1〜10:1の範囲を同時に満たしていることを特徴とする製造方法。
請求項(抜粋):
ジフェニルメタンジイソシアネート及びポリフェニルポリメチレンポリイソシアネートを含み、塩素化副生物含有量及びヨウ素色数が共に低減された混合物を、この混合物に対応する、ジフェニルメタンジアミン及びポリフェニルポリメチレンポリアミンを含む混合物を、少なくとも1種の不活性有機溶剤の存在下にホスゲンと2段階で反応させことにより製造する方法であって、 ホスゲン化の第2段階における滞留時間を有する装置内において、ホスゲンの塩化水素に対する質量比が、液相で10〜30:1の範囲及び気相で1〜10:1の範囲を同時に満たしていることを特徴とする製造方法。
IPC (3件):
C07C263/10
, C07C263/20
, C07C265/14
FI (3件):
C07C263/10
, C07C263/20
, C07C265/14
Fターム (3件):
4H006AA02
, 4H006AC55
, 4H006AD11
引用特許: