特許
J-GLOBAL ID:200903071567090132

金属硫化物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松本 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-319116
公開番号(公開出願番号):特開2004-149387
出願日: 2002年10月31日
公開日(公表日): 2004年05月27日
要約:
【課題】粒子径および粒径分布が制御された金属硫化物微粒子もしくは緻密な金属硫化物薄膜を優れた生産性で得ることができ、しかも各種金属に適用可能な、金属硫化物の製造方法を提供する。【解決手段】第1の金属硫化物の製造方法は、金属チオ-s-カルボン酸塩および/または金属ジチオカルボン酸塩とチオール化合物および/またはアルコールとを出発原料とするか、または、金属(チオ)アルコキシ基含有化合物とチオ-s-カルボキシル基含有化合物および/またはジチオカルボキシル基含有化合物とを出発原料として、金属硫化物を生成させるようにする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
金属チオ-s-カルボン酸塩および/または金属ジチオカルボン酸塩とチオール化合物および/またはアルコールとを出発原料とするか、または、金属(チオ)アルコキシ基含有化合物とチオ-s-カルボキシル基含有化合物および/またはジチオカルボキシル基含有化合物とを出発原料として、金属硫化物を生成させる、ことを特徴とする金属硫化物の製造方法。
IPC (10件):
C01G1/12 ,  C01B17/42 ,  C01F17/00 ,  C01G3/12 ,  C01G5/00 ,  C01G9/08 ,  C01G15/00 ,  C01G45/00 ,  C01G49/12 ,  C01G53/11
FI (10件):
C01G1/12 ,  C01B17/42 ,  C01F17/00 E ,  C01G3/12 ,  C01G5/00 Z ,  C01G9/08 ,  C01G15/00 B ,  C01G45/00 ,  C01G49/12 ,  C01G53/11
Fターム (14件):
4G048AA07 ,  4G048AB02 ,  4G048AD02 ,  4G048AD04 ,  4G048AE08 ,  4G076AA03 ,  4G076AB11 ,  4G076AB12 ,  4G076BA13 ,  4G076BC02 ,  4G076BD03 ,  4G076BD04 ,  4G076CA04 ,  4G076CA10
引用特許:
審査官引用 (6件)
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