特許

J-GLOBAL ID：200903071573563751

絶縁薄膜製造用の組成物

発明者： 田村 信史 ,  花畑 博之
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-144982
公開番号（公開出願番号）：特開2000-327933
出願日： 1999年05月25日
公開日（公表日）： 2000年11月28日
要約：

【要約】【課題】 微小な空孔径と高い空隙率を有し、かつ耐クラック性および機械的強度に優れた絶縁薄膜製造用の組成物を提供する。【解決手段】 絶縁薄膜用の組成物の主原料の一つに一つ以上の炭素炭素二重結合を含むか、または末端をアクリルあるいはメタクリルエステル化した炭素数1〜8の直鎖状または分岐状炭化水素基を含有するトリアルコキシシラン類を用いてシリカゲル/有機ポリマー複合体薄膜を成形し、その後このシリカゲル/有機ポリマー複合体薄膜から有機ポリマーを加熱焼成により除去して得られる多孔性シリカ薄膜は、誘電率が低く、孔径が小さく、耐クラック性および機械的強度に格段に優れた絶縁薄膜材料である。

請求項（抜粋）：

下記(A),(B),(C)を主成分とし、(A),(B)の仕込み組成比が(A)10〜100wt%、(B)0〜90wt%であることを特徴とする組成物。(A)下記一般式(1)であらわされるトリアルコキシシラン類および/またはその加水分解・重縮合物。R1 (Si)(OR2 )3 (1)(式中、R1 が一つ以上の炭素炭素二重結合を含むか、または末端をアクリルあるいはメタクリルエステル化した炭素数1〜8の直鎖状または分岐状炭化水素基であり、R2 は炭素数1〜6の直鎖状または分岐状アルキル基を表す。)(B)下記一般式(2)であらわされるアルコキシシラン類および/またはその加水分解・重縮合物。R3 n(Si)(OR4 )4-n (2)(式中、R3 はHまたは炭素数1〜8の直鎖状、分岐状、環状のアルキル基、または炭素数1〜8の芳香族基を表し、R4 は、炭素数1〜6の直鎖状または分岐状アルキル基を表す。またnは0〜3の整数である。)(C)炭素数が1〜12のエーテル基含有繰り返し単位を有する脂肪族ポリエーテル鎖、炭素数が1〜12のエステル基含有繰り返し単位を有する脂肪族ポリエステル鎖、炭素数が1〜12のカーボネート基含有繰り返し単位を有する脂肪族ポリカーボネート鎖または炭素数が1〜12のアンハイドライド基含有繰り返し単位を有する脂肪族ポリアンハイドライド鎖よりなる群より選ばれる少なくとも一種類の脂肪族ポリマー鎖から主に構成される主鎖を有する少なくとも一種類の有機ポリマー。

IPC (4件)：

C08L101/16 ,  C08L 83/04 ,  H01L 21/312 ,  C07F 7/18

FI (4件)：

C08L101/00 ,  C08L 83/04 ,  H01L 21/312 C ,  C07F 7/18 B

Fターム (36件)：

4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR20 ,  4H049VR21 ,  4H049VR40 ,  4H049VR43 ,  4H049VS21 ,  4H049VT32 ,  4H049VT33 ,  4H049VU24 ,  4H049VU33 ,  4H049VW33 ,  4J002CF03Y ,  4J002CF19Y ,  4J002CG01Y ,  4J002CH01Y ,  4J002CH03Y ,  4J002CP02X ,  4J002CP03X ,  4J002CP05W ,  4J002CP05X ,  4J002CP13W ,  4J002CP16W ,  4J002GQ01 ,  4J002GQ05 ,  5F058AA02 ,  5F058AA10 ,  5F058AC03 ,  5F058AC10 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH01 ,  5F058AH02