特許

J-GLOBAL ID：200903071576535600

投影露光装置

発明者： 川口 透
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-136143
公開番号（公開出願番号）：特開平8-306620
出願日： 1995年05月10日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 周囲環境の微妙な変化の影響を最小限に抑えて、マスクとウエハとの二次元的な相対位置ずれ量を高精度に検出することが可能な投影露光装置を提供する。【構成】 光束を供給するための光源手段と、光源手段からの光束を分割して、基板マークについて第1計測方向の位置を検出するための第1光束と、基板マークについて第1計測方向と実質的に交差する第2計測方向の位置を検出するための第2光束と、マスクマークについて第1計測方向に対応する第3計測方向の位置を検出するための第3光束と、マスクマークについて第2計測方向に対応する第4計測方向の位置を検出するための第4光束とを互いに近接するように生成するための光束分割手段とを備えている。

請求項（抜粋）：

マスク上の転写用パターンを所定倍率で感光性の基板上に投影する投影光学系と、前記投影光学系のフィールド内の所定の第1計測域において前記基板上に形成された基板マークと前記第1計測域に対応する第2計測域において前記マスク上に形成されたマスクマークとの相対的な位置ずれ量を前記投影光学系を介して検出するマーク検出手段とを備えた投影露光装置において、前記マーク検出手段は、光束を供給するための光源手段と、前記光源手段からの光束を分割して、前記基板マークについて第1計測方向の位置を検出するための第1光束と、前記基板マークについて前記第1計測方向と実質的に交差する第2計測方向の位置を検出するための第2光束と、前記マスクマークについて前記第1計測方向に対応する第3計測方向の位置を検出するための第3光束と、前記マスクマークについて前記第2計測方向に対応する第4計測方向の位置を検出するための第4光束とを互いに近接するように生成するための光束分割手段と、前記第1光束乃至前記第4光束を前記第1光束乃至前記第4光束に各々対応する前記第1計測域あるいは前記第2計測域へ導くための対物光学系と、を備えていることを特徴とする投影露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (6件)：

H01L 21/30 525 D ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 522 D ,  H01L 21/30 525 R ,  H01L 21/30 525 T