特許
J-GLOBAL ID：200903071578508520

刺激応答性多孔質高分子ゲル

発明者：
竹岡 敬和

竹岡 敬和 について

, 
渡邉 正義

渡邉 正義 について

, 
中山 大輔

中山 大輔 について

, 
斉藤 尚

斉藤 尚 について


出願人/特許権者：
よこはまティーエルオー株式会社

よこはまティーエルオー株式会社 について


代理人 (2件)： 滝田 清暉 ,  下田 昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-073323
公開番号（公開出願番号）：特開2004-027195
出願日： 2003年03月18日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：
【課題】刺激応答速度が速く、体積収縮率も高く、しかも光学的特性を有する新規な多孔質構造の刺激応答性高分子ゲルを提供する。【解決手段】空孔が規則正しくさらに連続的に配列している構造を有する多孔質であることを特徴とする刺激応答性高分子ゲル。規則性を有する配列に充填された無機粒子を含浸させた状態で刺激応答性を有する高分子を得るための重合を行ない、その後、無機粒子を除外することで無機粒子に相当する空隙が規則正しく配列した高分子ゲルが得られる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
空孔が規則正しく配列している構造を有する多孔質であることを特徴とする刺激応答性高分子ゲル。
IPC (1件)：
C08J9/26
FI (2件)：
C08J9/26 101 ,  C08J9/26
Fターム (11件)：
4F074AA50 ,  4F074CB03 ,  4F074CB13 ,  4F074CB22 ,  4F074CB27 ,  4F074DA03 ,  4F074DA05 ,  4F074DA13 ,  4F074DA14 ,  4F074DA53 ,  4F074DA59
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM