特許
J-GLOBAL ID：200903071583432337
ウェハ洗浄方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-165347
公開番号（公開出願番号）：特開平7-022364
出願日： 1993年07月05日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：
【要約】【目的】 ウェハ洗浄後のIPAベーパ乾燥における乾燥時間の短縮、さらにウェハの外観不良を低減させるウェハ洗浄方法および装置を提供する。【構成】 エッチング液18によってエッチングを行うエッチング槽1と、薬品洗浄を行う洗浄槽2と、純水3によってリンス洗浄を行う純水オーバーフロー槽(水洗槽)4と、IPA12を純水3に添加して作られるIPA・純水混合液5を混合循環させるためのオーバーフロー槽(IPA・純水混合液槽)6と、最終的にウェハ7を乾燥させるIPAベーパ乾燥槽8とから構成されるものである。
請求項（抜粋）：
エッチングまたは薬品洗浄後にウェハを洗浄する方法であって、ウェハをベーパ乾燥させる直前に、イソプロピルアルコールを純水に添加して作るイソプロピルアルコール・純水混合液槽に該ウェハを浸透させることを特徴とするウェハ洗浄方法。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, H01L 21/304 361
