特許

J-GLOBAL ID：200903071622992914

スパッタリングに高純度タンタルターゲットを使用した改善された銅用のタンタル含有バリヤー層

発明者： サン ビンクシ ,  チャン トニー ,  パヴェイト ビクラム ,  ディング ペイジュン ,  チン バリー ,  サンダーラジャン アーヴィンド ,  ホン イルヤング リチャード
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 中村 稔 (外9名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-582614
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530526
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】コンタミナントレベルの低いターゲットから、タンタル及び/又は窒化タンタルをスパッタ蒸着することにより、改善されたタンタル含有バリヤー層がえられる。即ち、重量比で30ppm以内の金属コンタミナント濃度、又は重量比で50ppm以内好ましくは10ppm以内のニオビウムと、重量比で10ppm以内のモリブテンと、重量比で10ppm以内のタングステンと、重量比で15ppm以内の金とである。これらの層を含む銅キャパシターの故障までのメジアン時間値は、コンタミナントを多く含む従来のタンタルターゲットを使用して作ったものより長い。

請求項（抜粋）：

タンタル含有バリヤー層を作るために有用なスパッタリングチャンバ用タンタルターゲットにおいて、前記タンタルは、金属コンタミナントを少量のみ含むことを特徴とするタンタルターゲット。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/285 301

FI (3件)：

C23C 14/34 A ,  H01L 21/285 S ,  H01L 21/285 301 R

Fターム (8件)：

4K029BD01 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4M104BB17 ,  4M104BB32 ,  4M104DD40 ,  4M104FF17 ,  4M104FF18