特許

J-GLOBAL ID：200903071624919912

表層パターン

発明者： トンプキン,ウェイン ロバート ,  シュタウプ,レネ
出願人/特許権者： オーファオデー キネグラム アーゲー
代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-577297
公開番号（公開出願番号）：特表2003-531404
出願日： 2001年01月12日
公開日（公表日）： 2003年10月21日
要約：

【要約】複数の表層区域(8、9、15、16、17)から成る目視可能なモザイク状の表層パターン(18)で、少なくとも一つの透明なカバー層(2)と一つの保護層(5)とから成る積層体(1)に埋め込まれる。表層区域(8、9、15、16、17)は入射光(10)を透過、散乱または反射し、微細レリーフ構造体(4)で回折する。表層区域(8、9、15、16、17)は少なくとも部分的に反射層(3)に覆われている。微細レリーフ構造体(4)を有する少なくとも一つの表層区域、エリア(16)は所定の速度でプロフィール高がゆっくり変化する、空間周波数fを有するZOM構造体(4’)であり、所定の可視スペクトルの限界周波数λGと空間周波数fとの積が1以上である。

請求項（抜粋）：

少なくとも一つの透明なカバー層(2)と一つの保護層(5)とから成る積層体(1)に埋め込まれる複数の表層区域(8、9、15、16、17)から成る、目視可能なモザイクを備える表層パターン(18)であって、該表層区域(8、9、15、16、17)が入射光ビーム(10)を透過または反射し、微細レリーフ構造体(4)において散乱または回折し、表層区域(8、15、16、17)が少なくとも部分的に反射層(3)に覆われる表層パターンにおいて、 微細レリーフ構造体(4、4’)を有する表層区域(15、16)のうち、座標x、yで規定される少なくとも一つのエリア(16)が、関数Hによって変化する光学上のプロフィール高hを有する回折構造体Gである、関数Sに基づくプロフィール(21)を有するZOM構造体(4’)を備え、前記G、HおよびSが共に座標x、yの関数であり、所定の可視スペクトルの波長λGと前記ZOM構造体(4’)の空間周波数との積P=λG・f)が1以上であることを特徴とする表層パターン。

IPC (5件)：

G02B 5/18 ,  B42D 15/10 501 ,  B42D 15/10 ,  B42D 15/10 531 ,  G07D 7/12

FI (5件)：

G02B 5/18 ,  B42D 15/10 501 G ,  B42D 15/10 501 P ,  B42D 15/10 531 C ,  G07D 7/12

Fターム (18件)：

2C005HA04 ,  2C005HB10 ,  2C005HB13 ,  2C005JA19 ,  2C005JB09 ,  2H049AA07 ,  2H049AA13 ,  2H049AA55 ,  2H049AA61 ,  2H049AA64 ,  2H049AA65 ,  2H049AA66 ,  3E041AA01 ,  3E041BA11 ,  3E041BB03 ,  3E041CA01 ,  3E041CA02 ,  3E041DB01