特許
J-GLOBAL ID：200903071628518823
ガス導入管付反応器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-115756
公開番号（公開出願番号）：特開平6-333867
出願日： 1993年05月18日
公開日（公表日）： 1994年12月02日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造装置の縦型拡散炉に用いられるガス導入管付反応器において、反応器の性能や機能を保持したままで、取扱い、メンテナンス、洗浄が極めて容易で、反応器を損傷することなく長期間使用することが可能な構造の縦型反応器を提供する。【構成】 縦型反応器の内部に反応性ガスを導入するガス導入管を、反応器の内壁に沿って配管し、反応器の上部に設けられているガス分散供給部から反応器内部に反応性ガスを導入する構造のガス導入管付反応器とする。【効果】 反応器の性能および機能は従来の反応器と同等のままで、ガス導入管を損傷することなく長期間使用することができ、経済的効果は大きい。
請求項（抜粋）：
半導体製造装置の縦型拡散炉に用いられる縦型円筒形の反応器において、該反応器の下部に反応性ガスを供給するガス導入口と未反応の反応性ガスを排出するガス排気口を備え、上記ガス導入口から反応性ガスを反応器内に導入するガス導入管を、上記反応器の内壁に沿って該反応器の上部に設けられているガス分散供給部に配管し、該ガス分散供給部から反応性ガスを反応器の上部から下方向に導入する構造としたことを特徴とするガス導入管付反応器。
IPC (2件)：
引用特許：
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