特許
J-GLOBAL ID：200903071663782657

レティクル検査装置

発明者：
高山 尚久

高山 尚久 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-115049
公開番号（公開出願番号）：特開平11-304719
出願日： 1998年04月24日
公開日（公表日）： 1999年11月05日
要約：
【要約】【課題】 レティクルのパターン外観検査時間を短縮した検査装置を提供する。【解決手段】 XYステージ部3にセットされたレティクルのパターンを、第1乃至第N(Nは2以上の整数)のフレームを有する撮像された画像パターンとして撮像する撮像光学系4、5と、第1乃至第Nの画像比較部71〜74と、撮像された画像パターンの第1乃至第Nのフレームを順次第1乃至第Nの画像比較部71〜74に分配する分配部6と、レティクルの描画時に使用したCADデータを、撮像された画像パターンの第1乃至第Nのフレームに対応した第1乃至第Nの中間デ一タに変換し、第1乃至第Nの中間デ一タを順次第1乃至第Nの画像比較部71〜74に予め転送する検査制御部1とを有し、第1乃至第Nの画像比較部71〜74は、撮像された画像パターンの第1乃至第Nのフレームを、第1乃至第Nの中間デ一タから生成した第1乃至第Nの参照画像にそれぞれ比較する。
請求項（抜粋）：
集積回路製造用レティクルのパターンの欠陥を検出するレティクル検査装置において、前記レティクルをセットするXYステージ部と、前記XYステージ部にセットされた前記レティクルのパターンを、第1乃至第N(Nは2以上の整数)のフレームを有する撮像された画像パターンとして撮像する一つの撮像光学系と、第1乃至第Nの画像比較部と、前記撮像された画像パターンの前記第1乃至前記第Nのフレームを順次前記第1乃至前記第Nの画像比較部に分配する分配部と、前記レティクルを描画する際に使用したCAD(Computor Aided Design) データを、前記撮像された画像パターンの前記第1乃至前記第Nのフレームに対応した第1乃至第Nの中間デ一タに変換し、前記第1乃至前記第Nの中間デ一タを順次前記第1乃至前記第Nの画像比較部に予め転送する検査制御部とを、有し、前記第1乃至前記第Nの画像比較部は、前記撮像された画像パターンの前記第1乃至前記第Nのフレームを、前記第1乃至前記第Nの中間デ一タから生成した第1乃至第Nの参照画像にそれぞれ比較し、前記撮像された画像パターンの前記第1乃至前記第Nのフレームの欠陥をそれぞれ検出することを特徴とするレティクル検査装置。
IPC (3件)：
G01N 21/88 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01N 21/88 E ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 V
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 画像処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-109485   出願人：株式会社ニコン
  • 特開昭58-048838
  • 特開平1-137376

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