特許
J-GLOBAL ID:200903071663804251

セラミツク基材下絵付用転写シート及びその転写シートを使用した下絵付セラミツク品の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 細井 勇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-278272
公開番号(公開出願番号):特開平5-085866
出願日: 1991年09月30日
公開日(公表日): 1993年04月06日
要約:
【要約】【目的】 各種セラミック基材に、焼成処理やセラミック基材の色等による悪影響を受けることなく、耐磨耗性に優れ意匠性に富んだ下絵付けができるセラミック基材下絵付用転写シートを提供すると共に、その転写シートを用いた下絵付セラミック品の製造方法を提供する。【構成】 ポリエステルシートに剥離層、絵柄層、隠蔽用着色層及び接着層を順次積層して転写シートとする。この転写シートを接着層側から素焼のセラミック基材表面に重ね合わせ、ポリエステルシートを剥離した後、焼成を行って各層の樹脂分を昇華させ、次いで施釉及び焼成を行って、下絵付セラミックを製造する。
請求項(抜粋):
ポリエステルシートに剥離層、絵柄層、隠蔽用着色層及び接着層を順次積層してなることを特徴とするセラミック基材下絵付用転写シート。
IPC (5件):
C04B 41/86 ,  B41M 3/12 ,  B44C 1/17 ,  C04B 41/00 ,  C04B 41/89
引用特許:
審査官引用 (1件)
  • 特開昭64-026500

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