特許
J-GLOBAL ID：200903071664021498

H▲下2▼O▲2下▼、酸およびAgをベースとした水性組成物、その製造方法、ならびに消毒、衛生および/又は汚染のコントロールのための該組成物の使用方法

発明者：
アラン エルハイク

アラン エルハイク について

, 
ラファエル アレックス デ ニコラ

ラファエル アレックス デ ニコラ について


出願人/特許権者：
ソディフラ

ソディフラ について


代理人 (1件)： 小川 信一 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-518383
公開番号（公開出願番号）：特表平11-500708
出願日： 1995年12月18日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：
【要約】本発明は、下記の(A)〜(D)からなる水性汚染除去用組成物に関する。(A) 該組成物の全重量当たり60重量%以下の量のH2O2;(B) RCO3H/RCO2Hの混合物、Rはメチル又はエチルであり、上記したように、該混合物は、過酸化水素に対する該混合物の重量比が0.15/lと0.85/lとの間であるのような量において存在する;(C) 銀塩および銀コンプレックスからなる群から選択される、Ag+イオンのソースとしての銀成分、該銀成分は、過酸化水素に対する該銀成分の重量比が0.0005/lと0.015/lとの間であるような量において存在する;(D) 安定剤、該安定剤は、過酸化水素に対する該安定剤の重量比が0.0005/lと0.025/lとの間であるような量において存在する;および全体を100重量%にするまでの水。さらに、該組成物の製造方法および使用方法に関する。
請求項（抜粋）：
下記の(A)〜(D)からなり、酸媒体中においてH2O2および銀成分を含有する水性汚染除去用組成物。 (A) 該組成物全重量当たり60重量%以下の量のH2O2; (B) RCO3H/RCO2Hの混合物、Rはメチル又はエチルであり、該混合物は、過酸化水素に対する該混合物の重量比が0.15/1と0.85/1との間であるのような量において存在する; (C) 銀塩および銀コンプレックスからなる群から選択される、Ag+イオンのソースとしての銀成分、該銀成分は、過酸化水素に対する該銀成分の重量比が0.0005/1と0.015/1との間であるような量において存在する; (D) 安定剤、該安定剤は、過酸化水素に対する該安定剤の重量比が0.0005/1と0.025/1との間であるような量において存在する;および全体を100重量%にするまでの水。
IPC (7件)：
A01N 59/16 ,  A01N 25/22 ,  A01N 25/30 ,  A01N 37/02 ,  A01N 37/16 ,  A01N 59/00 ,  B09C 1/06
FI (7件)：
A01N 59/16 A ,  A01N 25/22 ,  A01N 25/30 ,  A01N 37/02 ,  A01N 37/16 ,  A01N 59/00 A ,  B09B 3/00 303 P
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 特開昭52-025034
  • 特開昭62-255401

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