露光装置および露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-338868
公開番号（公開出願番号）：特開平9-180989
出願日： 1995年12月26日
公開日（公表日）： 1997年07月11日
要約：

【要約】【課題】本発明は、スキャン露光方式の光露光装置において、焦点深度の低下を防止できるようにすることを最も主要な特徴とする。【解決手段】たとえば、実際のスキャン露光の前に、レチクルステージ31のスキャン方向への移動にともなう、レチクル30の上下方向の位置をレチクル位置測定装置71で測定する。そして、その測定値をもとに演算回路72でオフセット用の補正データを求め、メモリ72a内に格納する。しかる後、実際のスキャン露光時に、順次、メモリ72a内のデータをフィードバック制御回路62に供給する。これにより、ウェーハ50のZ軸方向の位置とレチクル30の上下方向の位置とに応じてウェーハZ軸駆動機構54が制御されて、レチクル30の高さ位置の変化によって、レチクル30からの投影像がウェーハ50上の露光面50aでの合焦位置よりずれるのを補正する構成となっている。

請求項（抜粋）：

レチクルに形成されたパターン像をウェーハ上に投影する光学系と、前記レチクルが搭載され、前記光学系の光軸方向と垂直な方向に移動可能なレチクルステージと、前記ウェーハが搭載され、前記光学系の光軸方向および前記光学系の光軸方向と垂直な方向に移動可能なウェーハステージと、前記レチクルステージの、前記光学系の光軸方向と垂直な方向への移動にともなう、前記レチクル面の前記光学系の光軸方向の位置を測定するレチクル面位置測定手段と、このレチクル面位置測定手段の測定値にもとづいて、前記光学系による前記レチクルのパターン像を前記ウェーハ上に投影する際に、前記ウェーハの前記光学系の光軸方向の位置を調整する調整手段とを具備したことを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/207

FI (3件)：

H01L 21/30 526 B , G03F 7/207 H , H01L 21/30 518

引用特許：

審査官引用 (7件)

走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-057088 出願人：株式会社ニコン
投影露光方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-234609 出願人：株式会社ニコン
走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-125691 出願人：株式会社ニコン

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