特許
J-GLOBAL ID：200903071703757111
処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-208374
公開番号（公開出願番号）：特開平7-045596
出願日： 1993年07月30日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 被処理体を載置する載置台の冷媒収容部へ不要な熱の漏洩なく冷媒を供給し、被処理体を冷却する時間を短縮でき、処理のスループットを向上することができる処理装置を提供する。【構成】 所望の減圧雰囲気に調整可能な気密に構成された処理室2内の被処理体Wを載置する載置台4を冷却して被処理体Wを処理する処理装置において、前記載置台4に設けられた冷媒9を収納する冷媒収容部8と、この冷媒収容部8に接続され冷媒収容部8内に冷媒9を冷媒源24より供給する冷媒供給部11と、この冷媒供給部11の外周に設けられ、前記冷媒収容部8内で気化した冷媒ガス60を排出する冷媒排出部12と、この冷媒排出部12の外周に設けられ、減圧雰囲気にされる減圧部13とを具備したことを特徴とする処理装置。
請求項（抜粋）：
所望の減圧雰囲気に調整可能な気密に構成された処理室内の被処理体を載置する載置台を冷却して被処理体を処理する処理装置において、前記載置台に設けられた冷媒を収納する冷媒収容部と、この冷媒収容部に接続され冷媒収容部内に冷媒を冷媒源より供給する冷媒供給部と、この冷媒供給部の外周に設けられ、前記冷媒収容部内で気化した冷媒ガスを排出する冷媒排出部と、この冷媒排出部の外周に設けられ、減圧雰囲気にされる減圧部とを具備したことを特徴とする処理装置。
IPC (5件)：
H01L 21/3065
, C23C 14/50
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, G01N 25/00
