新規なコバルタジチオレン錯体化合物

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-263774
公開番号（公開出願番号）：特開2003-073389
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：

【要約】【課題】光学材料などの高機能性材料や、不斉合成反応などの触媒として好適に用いられる、新規なメタラジカルコゲノレン環含有錯体化合物、特に、新規なコバルタジチオレン錯体化合物を提供することを目的とする。【解決手段】下記の構造式(I)または(II)で表される、新規なコバルタジチオレン錯体化合物。式中、は、シクロペンタジエニル基を示し、Phはフェニル基を示し、R1は、炭素数4〜18の有機基を示す。式(II)において、は、シクロペンタジエニル基であり、Phはフェニル基であり、R2は、炭素数1以上の有機基であり、R2及びOH基が結合している炭素原子が不斉炭素である。

請求項（抜粋）：

下記の構造式(I)で表される、新規なコバルタジチオレン錯体化合物。【化1】式中、【化2】は、シクロペンタジエニル基を示し、Phはフェニル基を示し、R1は、炭素数4〜18の有機基を示す。

IPC (6件)：

C07F 17/00 , C07C323/16 , C07C323/56 , C09K 19/34 , C07F 15/06 , C07M 7:00

FI (6件)：

C07F 17/00 , C07C323/16 , C07C323/56 , C09K 19/34 , C07F 15/06 , C07M 7:00

Fターム (11件)：

4H006AA01 , 4H006AA03 , 4H006AB40 , 4H006AB64 , 4H027DJ02 , 4H027DJ08 , 4H050AB40 , 4H050AB64 , 4H050WB11 , 4H050WB15 , 4H050WB21

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