特許
J-GLOBAL ID：200903071711544186
中性粒子ビーム照射装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩越 重雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-289178
公開番号（公開出願番号）：特開平5-101899
出願日： 1991年10月07日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：
【要約】【目的】 低エネルギー領域(数Kev〜数百ev)の中性粒子ビームを照射する装置に於いて、中性粒子ビームの高輝度化を計ることにより超高温場の達成を可能とし、実際の周辺プラズマ条件に近い状態下で種々の材料に対する高熱負荷照射試験等を実施できるようにする。【構成】 アークチャンバーを備え、熱陰極アーク放電によりソースプラズマを生成するソースプラズマ生成部と;前記アークチャンバーの開口部に設けられ、ソースプラズマ中のイオンを中性化セル内へ引出すビーム引出し電極部とから成る中性粒子ビーム照射装置に於いて、前記ビーム引出し電極部を、所定の間隔を保持して並設した正電位を与えた加速電極と負電位を与えた減速電極と接地電極の3枚の多数の電極孔を有する平板状電極から形成すると共に、前記加速電極とアークチャンバーとの間の電位VC-Eを可変とする。
請求項（抜粋）：
アークチャンバーを備え、熱陰極アーク放電によりソースプラズマを生成するソースプラズマ生成部と;前記アークチャンバーの開口部に設けられ、ソースプラズマ中のイオンを中性化セル内へ引出すビーム引出し電極部とから成る中性粒子ビーム照射装置に於いて、前記ビーム引出し電極部を、所定の間隔を保持して並設した正電位を与えた加速電極と負電位を与えた減速電極と接地電極の三枚の多数の電極孔を有する平板状電極から形成すると共に、前記加速電極とアークチャンバーとの間の電位Vc-Eを可変とするようにしたことを特徴とする中性粒子ビーム照射装置。
IPC (4件)：
H05H 3/02
, G21K 1/14
, H01J 27/08
, H05H 5/02
