特許
J-GLOBAL ID：200903071717552512
露光方法及び露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮川 貞二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-021099
公開番号（公開出願番号）：特開平10-209032
出願日： 1997年01月20日
公開日（公表日）： 1998年08月07日
要約：
【要約】【課題】 ウエハの露光工程において、静止露光方式と走査露光方式とを切り替えて露光できる露光方法及び露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 マスクに形成されたパターンを感応性基板上の複数のショット領域に露光する露光方法において、前記マスクと前記感応性基板とを走査しながら露光する走査式露光ステップと、前記マスクと前記感応性基板とを静止させて露光する静止式露光ステップと、前記複数のショット領域のうちの一ショット領域について、その一ショット領域の前記感応性基板上での位置を検出する検出ステップと、前記検出ステップの検出結果に応じて、前記走査式露光ステップと前記静止式露光ステップとを選択する選択ステップと、前記選択ステップの選択に応じて、前記一ショット領域に対して前記パターンを露光する露光ステップとを有することを特徴とする露光方法。走査露光方式と静止露光方式を組み合わせて用いることで、ウエハの周縁ショット領域でのデフォーカスを防ぎ、不要なスキャン動作を行わないことで、スループットの改善が図られる。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンを感応性基板上の複数のショット領域に露光する露光方法において、前記マスクと前記感応性基板とを走査しながら露光する走査式露光ステップと、前記マスクと前記感応性基板とを静止させて露光する静止式露光ステップと、前記複数のショット領域のうちの一ショット領域について、その一ショット領域の前記感応性基板上での位置を検出する検出ステップと、前記検出ステップの検出結果に応じて、前記走査式露光ステップと前記静止式露光ステップとを選択する選択ステップと、前記選択ステップの選択に応じて、前記一ショット領域に対して前記パターンを露光する露光ステップとを有することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 518
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 514 C
, H01L 21/30 526 A
